2纳米光刻机

法国学者指出美国对华技术禁令可能产生反向效应，激发中国自主创新动力。历史案例表明贸易封锁有时催生本地产业成长。这场竞争最终出现两个输家——欧洲失去市场，美国长期刺激中国自主研发。若中国成功突破光刻机技术，反而可能感谢特朗普的禁令。

中国半导体自主化取得新进展。国企上海爱晟纳集团已启动浸润式深紫外光光刻机批量生产，计划今年产5套、2027年增至20套。虽被视为削减对海外设备依赖的突破，但业界认为国产DUV仍需测试验证。在良率、效率和稳定性等指标上与ASML差距明显，短期难撼其全球主导地位。

多家媒体报道，中国已启动国产深紫外光刻机的量产阶段，由爱生纳公司主导，计划今年交付5台，明年增至20台。ASML股价波动，但专家认为国产设备在良率、精度等指标上与国际水平存在差距，短期内难以撼动其市场地位。

一家中国国营企业正式启动浸没式深紫外光刻机量产，今年预计交付5台设备给中芯国际等主要芯片制造商，明年目标提升至20台。该国产设备可用于28纳米芯片生产，也满足7纳米工艺需求，有望打破进口品牌垄断。

据外媒12月22日报道称，荷兰阿斯麦公司将优先向美国英特尔公司交付其新型高数值孔径的极紫外光刻机。据悉，每台新机器的成本超过3亿美元，可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。…