荷兰芯片制造设备供应商艾司摩尔集团。（美联社供图）
根据路透社最新报道，知情人士透露中国已启动国产沉浸式深紫外曝光机（DUV）的生产阶段。
该技术是芯片生产的核心工艺，代表着中国在降低对海外技术依赖方面取得的突破性进展。一旦美国加强对ASML产品的管制力度，国产光刻机将可能成为有力的替代选择。值得关注的是，这一项目由上海爱生纳电子科技集团承担，这家鲜少见诸报端的企业甚至未建立公开网站。
当前美国禁令阻止中国获取ASML最尖端的EUV光刻机，荷兰出口管制也严格控制了中国对先进DUV设备的采购渠道。尽管北京积极推进产业自主化，ASML仍高度依赖中国市场，上半年收入的16%源自中国地区。国内芯片制造商虽无法采购先进EUV系统，但在相对落后的DUV设备上的采购需求仍很庞大。
美国科技媒体《The Information》于27日首次曝光了这一消息，指出这家获得官方支持的企业已进入小批量试产阶段，拟于年内首次向中芯国际、华虹半导体以及长鑫存储等企业供应设备，今年规划产能为5台，2027年有望达到20台。该产品针对28纳米工艺开发，同时兼容7纳米级别生产需求。不过当时报道未披露企业身份，仅提及系多家研发机构的整合成果。
路透社在28日确认了爱生纳的身份，将其视为中国推进芯片产业自给自足计划的重大成就——该目标得到最高层的重视——但指出现阶段的技术实力尚不足以对荷兰科技巨头ASML构成直接威胁。业内人士透露，爱生纳的产品仍处于验证阶段，与国际同类产品相比存在明显的性能差距。
消息公布后，ASML股价随之波动，最初跌幅达8%，最终收窄至1.6%。业界认为，若国产DUV量产推进顺利，势必撼动ASML的垄断优势。相关企业包括ASML、中芯国际、华虹以及长鑫存储均未就此做出官方回应。
摩根大通分析人士28日评论称，虽然股市有所反应，但长期看这不足以改变ASML的盈利前景。其核心观点在于：「小规模试产与工业化量产本质不同，决定胜负的因素是国产设备在批量生产中是否能保持良率、对准精度、产能和使用寿命的一致性。」
爱生纳成立于2023年8月，注册资金70亿元人民币（约10亿美元），由上海电气集团控股和上海国际信托控制的子公司作为仅有的国有投资方。有关该企业的公开信息极为稀少，既无官方网络平台，也从未对外公布任何经营数据。
知情人士披露，该集团已并入光刻机初创企业宇量升——华为支持的设备商SiCarrier的分公司，去年已进行DUV原型验证——及上海微电子（SMEE）的研发力量。值得注意的是，两家企业在上海登记的办公地点相同。此前路透曾报道中国完成EUV光刻机样机研制，但工业化量产尚需数年。
