在量产方面，国产光刻机与ASML技术仍有数年距离。全球光刻机市场中，ASML的领先地位短期难以被取代。图为ASML实验室。（法新社）
自主化进程在中国半导体领域不断推进。据路透社报道，一项重大突破正在上演——上海爱晟纳电子科技集团（一家国企）已启动浸润式深紫外光光刻机的批量化生产。按照计划，今年内将产出约5套设备，到2027年这一数字将扩大到20套左右。
这无疑是北京减少对海外芯片设备依赖计划的一大突破。但业界人士也指出了现实困难——国产DUV设备需要经历更多的测试验证。在产品良率、生产速度和稳定性等核心参数上，与ASML产品的差距依然显著。要在短时间内动摇ASML的全球优势地位，仍然困难重重。
消息渠道显示，中国自主研发的浸润式深紫外光设备已进入批量化阶段。对于先进芯片的生产制造而言，这类设备的重要性不言而喻，其国产化突破也标志着北京在削弱对外部设备依赖方面的关键进展。
作为该项目的执行者，上海爱晟纳电子科技集团是一家国企，已汇聚了国内顶级光刻设备创新企业的研发力量。
对于中国半导体自主化战略而言，这是一项重大成果。这一战略目标一直都被中央高度重视。然而，在可预见的未来，这类技术尚不足以对ASML这一荷兰芯片设备巨人形成商业压力。DUV设备作为芯片生产的核心工具，长期以来都是ASML市场垄断的象征。
科技媒体《The Information》首家曝光了这一消息，提及上海某家背景为国有的企业正在生产DUV光刻机，年度计划目标在5台左右，到2027年拟增加至约20台。后来路透社的报道进一步明确了身份——这家企业就是上海爱晟纳电子科技集团。
本土DUV尚需验证 有望成为中国芯片制造的备选方案
爱晟纳生产的DUV光刻机仍处于测试阶段，在性能指标上与荷兰竞争对手还有较大空间。但一旦这套设备成功应用，它将为中国芯片商提供新的选择——当西方加强对光刻设备的出口管制或维修限制时，这将成为一条重要的替代途径。
据《The Information》披露，中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等主要芯片制造企业有望在今年内获得国产DUV光刻机的交付。
所谓浸润式DUV，其工作原理是在镜头和晶圆间充入一层液体（通常为水），通过改变光的折射特性，能够在硅片上刻出更精细的电路。这种设备的应用范围广泛，几乎覆盖所有芯片类型，还可以配合多重曝光技术（对同一芯片层反复照射）来实现更细的工艺节点。
资金与人才集结 这家「神秘国企」如何成为光刻突破的关键
公开信息显示，爱晟纳在2023年8月注册成立，初期融资规模达70亿元人民币，背后由两家国企撑腰——上海电气控股集团和上海国际信托旗下实体。但这家企业一直保持低调，既无官方网站，也很少对外披露业务细节。
在人才整合方面，爱晟纳吸纳了新兴光刻企业宇量升以及上海微电子装备公司的研发力量。宇量升从去年开始就投入到DUV原型的验证工作。这两家企业都是北京自主化计划的重要参与者。
国产EUV仍是梦想 追赶ASML还需数年苦功
美方禁令使中国无法采购ASML的尖端EUV光刻系统。而荷兰政府的出口管制措施，同样对中国先进DUV设备的获取构成了障碍。
即便在自主化进程的推动下，ASML仍将中国视为至关重要的销售市场。今年上半年的财报数据表明，中国贡献了ASML净销售额的约16%。尽管被堵在EUV技术门外，但中国企业对相对成熟的DUV产品的需求量仍然很大。
去年年底，路透社的报道曾提及中国研制出EUV设备的工程样机。这类设备对全球最尖端芯片的生产至关重要，但要从样机迈向商用产品，还需经历数年的开发周期。市场虽然对国产DUV的进展有所关注，但从分析师的角度看，这还不足以在短期内撼动ASML的利润增长。
摩根大通的分析师在最新报告中强调：”少量试制与大规模商业化生产是两回事。判断一台设备是否真正可用，关键在于它能否在生产数千片晶圆的过程中保证优异的良率、对位精度、产能和耐用性。”专家们指出，中国要想真正威胁到ASML，必须破解规模量产和产品稳定性这两道难关。
