芯片自主化

中国半导体自主化取得新进展。国企上海爱晟纳集团已启动浸润式深紫外光光刻机批量生产，计划今年产5套、2027年增至20套。虽被视为削减对海外设备依赖的突破，但业界认为国产DUV仍需测试验证。在良率、效率和稳定性等指标上与ASML差距明显，短期难撼其全球主导地位。