本文首发于上海交通大学学报，现由十点公社转介，与读者诸君分享。
图源：知乎
这部论文集出版于2009年，汇聚了他从1983年至2008年间的27篇重要论述及2篇附录，约17万字，大量内容系首度面世。在这一整体框架中，他对2020年微电子技术将迈入14纳米阶段的预测尤为精准。更为关键的是，他明确指出了一个根本性的认识：技术的核心内核市场上是采购不到的，只有坚持自主创新才是出路。若只是依赖引进和消化，一代代地重复这种模式，终将无法达成与世界一流水准的并肩。他呼吁科研工作者要振奋精神、奋发有为，否则在与发达国家的竞争中，关键技术领域注定会遭受被动。
该集合中，他在2008年10月发表于上海交通大学学报的《新时期我国信息技术产业的发展》被特意编排在整部著作的最前位置。
该文对改革开放后我国信息技术产业所积累的发展经验进行了系统梳理和深层总结，涵盖了众多关乎微电子产业前景的战略思考。
论文的核心观点如下：
高端计算机与服务器系统的发展轨迹遵循多核处理器和分层并行架构的逻辑，性能指标正在向百亿亿次运算乃至更高境界冲击，同时演进的方向已从片面强调运算峰值转向综合优化信息处理的整体效率。
新兴的云计算技术正在展现强大生命力，它能够将互联网中分散的计算资源进行虚拟整合，以统一的计算平台形式向用户供应所需能力。与此同时，量子、光子、生物等新范式计算方式以及人工智能领域正在酝酿突破性进展，计算技术和计算体系的整个生态正面临着根本性的重塑。
在微电子这一战略高地，必须提前谋划未来颠覆性技术的原创研发，将芯片设计方法、制造工艺、专业设备、基础材料等确定为核心突破口，构建起涵盖全流程的自主创新链条。同时要重点孵育、扶持具备国际竞争实力的集成电路企业群体，无论设计侧还是制造侧，逐步做优做强产业生态，最终建成在全球占有重要地位的微电子产业中心。
下一代光刻工艺（以下简称NGL）的突破是重中之重，这将直接影响我国在纳米工艺集成电路领域的起始高度和竞争地位。其中，极紫外光源光刻技术正在研发的热潮中，该技术通过调整光束波长、应用多重反射光学元件等手段，达成了对线宽进一步微缩的目标。
当下阶段，中国信息产业的首要任务就是要突破技术瓶颈、强化创新驱动。问题往往不在于我们欠缺能力去跨越，而在于我们的创新勇气有待提升；困难不是源于无法突破的客观条件，反而是我们对成功的信念还不够坚定。
若以冷静的眼光回顾我国信息产业走过的这段历程，不难看出蓄势待发的力量在其中凝聚成形，令人有理由对即将来临的突破充满期许。只要坚定不移地沿着富有中国特色的信息产业发展路径前行，我们势必能在国际舞台上占据属于自己的位置，成为全球信息技术产业中的重要力量。
以下为《新时期我国信息技术产业的发展》论文原文：
